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氣溶膠光譜測量

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測量工業過程、環境中的氣溶膠粒徑和濃度,過濾器測試等。

功能強大的散射光氣溶膠光譜儀系統,可測量>=120 nm顆粒

 


 

Promo® 1000

散射光氣溶膠光譜儀系統,用於過程測量技術和采用光波導體技術的監控應用

 


 

Promo® 2000

散射光氣溶膠光譜儀系統,用於過程測量技術和監控應用,帶有兩個傳感器,同時進行準測量

 


 

Promo® 3000

功能強大的氣溶膠光譜儀,具有最高的粒徑分辨率,測量範圍120 nm到40 µm

 


 

welas® digital 1000

帶有氣溶膠傳感器的氣溶膠光譜儀,最高的粒徑分辨率,采用光波導體技術,測量範圍從200 nm到100 µm

 


 

welas® digital 2000

帶有兩個氣溶膠傳感器的氣溶膠光譜儀,最高粒徑分辨率,可並發進行200 nm至100 µm範圍測量

 


 

welas® digital 3000

MDI(計量吸入器)、霧化器和DPI噴霧量實時粒度和顆粒定量測定

 


 

Inas® 100

MDI(計量吸入器)和霧化器的單噴霧脈沖實時粒徑和顆粒量測定

 


 

Inas® 40