Description
Palas®的MFP过滤器测试台已经在开发和质量控制的实际应用中在世界各地经过多次验证。
MFP Nanoplus 4000专门设计用于根据DIN EN 1822-3和ISO 29463-3标准精确地测定HEPA和ULPA过滤介质的分离效率。
本设备是一种现代且功能强大的纳米颗粒测量设备，以U-SMPS形式，进行5 nm到1 µm范围粒度测量和数值分析：
使用MFP Nanoplus 4000和UF-CPC冷凝粒子计数器在原始气体和清洁气体中实时测量特定尺寸的分离效率。
MFP Nanoplus 4000馏分分离效率的实时测量具有以下特殊优势：
• 通过测量原始气体和清洁气体中的颗粒浓度，可将确定馏分分离效率的测量时间减半。
• 结合两种UF-CPC版本，UF-CPC在原料气中的最高测量浓度可达2,000,000颗粒/立方厘米（单计数模式），而UF-CPC 50在洁净气体低浓度下的最高计数率对应于稀释系数为1：200。因此，不再需要常规的气溶胶稀释。
借助通用气溶胶发生器UGF 2000，可以使用DEHS或盐（NaCl / KCl）生产与MMPS范围相匹配的气溶胶分布。
测试序列的高度自动化设置以及清晰定义的单个组件和滤波器测试软件FTControl的可单独调整程序，共同提供高度可靠的测量结果。
MFP过滤器测试台是用于扁平过滤器介质和小型微型过滤器的模块化过滤器测试系统。可以在很短的时间内确定压力损失曲线、馏分分离效率或负荷，既可靠又具有成本效益。
我们的质量细节
1.使用UGF 2000产生多种气溶胶，用于KCl/NaCl或DEHS。集成的Nafion干燥系统。通过质量流量控制器单独调节产生的烟雾体积流量。
2.气溶胶中和：Kr-85-370电源或软X射线充电器XRC 370电晕放电（可选）：可调节的离子流适用于不同的质量流量。混合空气，可调节流入速度为1.5至40厘米/秒。通过质量流量控制器实现监视和控制。
3.可移动的气动过滤器支架，用于快速拆卸和装载带有集成式DEMC 2000（差动迁移分类器）的试验台。 U-SMPS包含的DEMC 2000（差分电迁移率分类器）对UGF 2000产生的多分散气溶胶粒径进行分类。在DEMC 2000的下游仅包含单分散颗粒。DEMC 2000自动调节相关粒径控制单元。
4.使用UF-CPC 200进行高浓度原始气体测量。为了测量原始气体中的颗粒数，UF-CPC 200冷凝颗粒计数器在单计数模式下被用于计数高达2,000,000个颗粒/立方厘米的颗粒。这意味着在极高浓度原始气体测量中不需要稀释系统。无需长时间或复杂地清洁系统。
5. 使用UF-CPC 50对低浓度进行清洁气体数值分布测量
“全流量” UF-CPC 50，针对清洁气体中的低颗粒浓度（单计数模式，最大10,000个颗粒/ cm3）进行了优化。
在UF-CPC的“全流量”颗粒测量中,对整个采样体积流量进行了全面分析。这意味着在清洁气体中低颗粒浓度下可以实现很高的计数率。
Palas®过滤器测试软件FTControl控制U-SMPS并评估数据。
将气溶胶分布调整到MPPS范围
通过适当调整溶液浓度，可以将生成的粒度分布与MFP Nano + 4000中的相关MPPS范围相匹配。
图1：使用DEHS调节所需MPPS范围的粒径
图2：在>=140 nm的MPPS范围内的馏分分离效率比较。
• 清晰展示整个测量范围内过滤介质的分离效率。
• 精确测定MPPS范围。
• 最高的测量重现性和可重复性突显分离效率的微小差异。
• 优化的气溶胶应用，使每次分离效率测量的测量时间短至两分钟。
• 分离效率曲线的简单比较，也可以计算平均值
自动化：
MFP Nano + 4000集成质量流量控制器，用于控制体积流量；可以通过FTControl过滤器测试软件进行自动监视和控制。
在过滤器测试期间，还会自动记录传感器数据，例如过滤器的体积流量和压差。
验证原始气体和清洁气体中的采样是否合格：在初始培训过程中，将演示未经过滤的原始气体和清洁气体测量符合性验证。
使用MFP Nano + 4000，可以在MPPS范围内以及整个测量范围内进行馏分分离效率测量。另外，在相关的流入速度下清楚地确定介质的相关压力损失。
